紫外輻照設(shè)備專利概述

要求（專利）號：CN200710300359.0要求日：2007.12.29
揭露（布告）號：CN101216155揭露（布告）日：2008.07.09
主分類號：F21V13/00(2006.01)I領(lǐng)域分類：
分類號：F21V13/00(2006.01)I；F21V5/04(2006.01)I；F21V9/08(2006.01)I；F21V23/00(2006.01)I；F21V29/02(2006.01)I
要求（專利權(quán)）人：中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所
地址：130033吉林省長春市東南湖大道16號
國省代碼：吉林；22
創(chuàng)造（規(guī)劃）人：尼啟良；劉世界；陳波
專利署理組織：長春菁華專利商標(biāo)署理事務(wù)所
署理人：趙炳仁
★ 摘要
   本創(chuàng)造觸及一種紫外輻照設(shè)備，其選用的技能計劃是：榜首光源宣布的包括200nm-400nm波段的光線經(jīng)聚光鏡會聚，再由準(zhǔn)直鏡準(zhǔn)直，最終經(jīng)過榜首濾光片濾掉除200nm-400nm波段的別的光線后照耀到光滑資料；第二光源發(fā)射的包括110nm-300nm波段的光線經(jīng)過第二濾光片濾掉除110nm-300nm波段的別的光線后照耀到真空中放置的光滑資料。本創(chuàng)造能夠模仿大氣和太空環(huán)境下太陽光中的紫外線，使光滑資料發(fā)作功能改動。這么，就能夠檢查經(jīng)過大氣中紫外線和真空紫外線輻射后光滑資料的功能參數(shù)數(shù)值，剖析發(fā)生功能改變的因素，并依據(jù)剖析成果研發(fā)在有紫外線照耀條件下作業(yè)的穩(wěn)定性好的光滑資料。
★ 主權(quán)項
    一種紫外輻照設(shè)備，其特征在于包括榜首光源，聚光鏡，準(zhǔn)直鏡，榜首濾光片；所述的榜首光源宣布的包括200nm-400nm波段的光線經(jīng)聚光鏡會聚，再由準(zhǔn)直鏡準(zhǔn)直，最終經(jīng)過榜首濾光片濾掉除200nm-400nm波段以外的別的光線后出射200nm-400nm波段的紫外光線。


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